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【產品ID號】：775

【產品編號】：SJ-QT-10249

【中文名稱】：三氟化氮標準氣體

【英文名稱】：Nitrogen trifluoride standard gas

【氣體濃度】：99.99%（可定制）

【產品規(guī)格】：2L、4L、8L（含瓶）

【平衡氣體】：三氟化氮

【不確定度】：U=2%，k=2

【保質期限】：12個月

【保存條件】：儲存于陰涼、通風的庫房。庫溫不宜超過30℃。儲區(qū)應備有泄漏應急處理設備。

【應用領域】：三氟化氮主要用途是用作氟化氫－氟化氣高能化學激光器的氟源，在h2-O2與F2之間反應能的有效部分（約25%）可以以激光輻射釋放出，所HF-OF激光器是化學激光器中最有希望的激光器。三氟化氮是微電子工業(yè)中一種優(yōu)良的等離子蝕刻氣體，對硅和氮化硅蝕刻，采用三氟化氮比四氟化碳和四氟化碳與氧氣的混合氣體有更高的蝕刻速率和選擇性，而且對表面無污染，尤其是在厚度小于1.5um的集成電路材料的蝕刻中，三氟化氮具有非常優(yōu)異的蝕刻速率和選擇性，在被蝕刻物表面不留任何殘留物，同時也是非常良好的清洗劑。隨著納米技術的發(fā)展和電子工

【注意事項】：密閉操作。密閉操作，提供良好的自然通風條件。操作人員必須經過專門培訓，嚴格遵守操作規(guī)程。建議操作人員穿防寒服，戴防寒手套。防止氣體泄漏到工作場所空氣中。搬運時輕裝輕卸，防止鋼瓶及附件破損。配備泄漏應急處理設備。